第四十四章 临时想到的伪装计划 (第1/2页)

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许秋将蚀刻失败的基片处理掉，开始思考失败的原因。

一方面可能是蚀刻时间过长；

另一方面可能是胶布与基片之间存在有气泡，或者它们的间隙过大。

再次实验。

许秋又取来三片pen基片，用3电工胶布贴好图案后，反复用镊子按压胶布的所在部位，使之与基片尽量贴合。

然后，他在三个新的一次性塑料杯中加入稀盐酸，并倒入两勺锌粉。

等待五秒钟后，他将三片基片各自放入一个塑料杯中，同时按下秒表。

每隔40秒钟，捞出一片基片，随后用去离子水冲洗干净，撕下上面贴有的3电工胶布。

许秋通过肉眼观察，蚀刻时间为40秒、80秒的基片，均得到了完好的图案。

而蚀刻时间为120秒的基片，ito图案的边缘有被酸液腐蚀的痕迹，不过相较于上一次实验，痕迹变得不明显。

这说明将胶布与基片紧密贴合，对于防止酸液渗入胶布下面起到了一定的作用。

肉眼可能会骗人，为了确保蚀刻成功，许秋从工具箱中取出万用表，测量基片上被蚀刻部位的导通情况。

将万用表调至导通模式，如果两个红黑表笔之间的电阻很小，万用表就会发出“滴”的声音。

经过检测，三个基片被蚀刻部位都是不导通的，而ito本身是良好的导体，这表明裸露在外的ito成功被蚀刻。

因此，蚀刻时间为40秒和80秒的条件都是可行的。

许秋最终选择了一个中间值，蚀刻1分钟。

…………

摸索好实验条件后，许秋制备了12片图案化的pen/ito基片。

虽然中途有一片因为胶布没有粘牢而失败了，但是不影响大局。

随后，他用异丙醇清洗基片，接着用氮气枪吹干，装入培养皿中。

接下来的旋涂操作，许秋又遇到了新的问题。

pen基片无法被匀胶机上方的平台吸牢，在高速旋转的过程中，基片有时会直接飞出去。

许秋想了想，将pen基片贴在了与之同等大小的玻璃片上，然后再进行旋涂。

顺利解决问题。

涂好pedot:pss后，许秋将基片上的玻璃片取下，然后在100摄氏度下退火，擦片。

之后，他又重新在基片上贴好玻璃片，传入旋涂的手套箱内。

陈婉清看到后，好奇问道：“许秋，这是什么，玻璃片上贴着……pen基片吗？”

“没错，我已经找到蚀刻pen基片的方法了，湿法蚀刻，用3胶布贴好，控制好时间就行了，”许秋道：

“下面贴一块玻璃是为了方便旋涂。”

“好呀，等下准备涂什么有效层啊？”陈婉清道。

“学姐给我点ptb7-th的溶液用用呗，还有旋涂方法也告诉我吧。”许秋道。

“溶液在加热搅拌台上，应该还有500微升，足够你用了，”陈婉清道：

“实验条件的话，我等下写在便签纸上给你，现在快吃午饭了，等吃完饭回来再做实验吧。”

…………

下午，还不到一点钟，许秋便拿着学姐的便签纸，进入手套箱中。

没办法，旋涂的手套箱可是香饽饽，他怕到一点半的时候抢不到手套箱的使用权。

许秋看了一眼学姐的实验条件：

“氯苯溶剂，15毫克每毫升，给受体比例1:1，2000转速，05体积分数的dio，不退火。”

可以直接拿来使用，只需要调控一下转速即可。

溶液在放置和使用过程中，因为溶剂挥发等原因，其浓度是会改变的。

通常是溶液配制的时间越久，它的浓度越高，对应的最佳转速也会越来越高。

因此，一般情况下，一个溶液都会做多个转速，来补偿溶液浓度变化带来的影响。

这次做器件只是初步尝试，许秋没打算将十二片基片全部用掉。

他决定只用四片，其中两片涂ptb7-th：pc[70]b溶液，另外两片用之前的p3ht:pc[60]b溶液。

p3ht的那两片操作稍微复杂一些，因为涉及到热退火和溶剂退火。

退火温度需要控制在100摄氏度，同时退火期间也要把下面粘着的玻璃片取下。

…………

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