第105部分 (第1/4页)
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U盘内的资料是汉语跟日语的对照版。
第一份关于193nm沉浸式光刻机技术的完整资料,就让已经知道这份资料来源的研发室人员对华夏关于光刻机技术的研发程度感到了迷茫,甚至有人开始怀疑华夏人是否用了什么不光彩的手段从他们这里偷到了关于这项技术的资料。
但是等他们暂时放下疑惑,开始研究第二份资料后,不但没有人在好意思怀疑提起华夏人偷走了他们研发资料的话题,更是对此时天书科技在光刻机方面的研究感到震撼跟膜拜。
实际上尼康正在研究下一代的EUV光刻技术并不是什么秘密。所以初看到EUV十项技术难题以及解决方案的标题时,还没有人察觉到这份资料的价值。
毕竟在他们看来,关于EUV光刻技术的研究,除而来荷兰的阿思麦公司外,肯定没有其他公司会比他们更加了解这项技术。
可是接下来看到这份资料提出的第一项关于光刻胶的技术难点时以及解决方案时,所有人都沉默了。
这份解决方案相当的详尽,各项数据跟他们研发过程中得到的数据很近似,还有各种配图详解看的众人连连点头,但是到了解决问题的最关键时刻,最重要的数据跟方案解决部分却直接被掩盖掉了。
好吧,这帮眼高于顶的研发人员自然是有专业眼光的。他们能看出来,按照解决方案来执行似乎的确可以解决这一难点,更关键的是,这一难点正好就是此时他们遇到的麻烦之一。
那种勾起了人心理的痒处,却让人搔不到的感觉可把一群研究人员给急坏了。
他们恨不得立刻就把提供这份资料的人抓到研究室给他们讲解一番才好,最少也要把那些掩盖住的东西给讲详细了吧?关键地方打马赛克这特么是跟谁学的?你以为这是拍限制级小电影呢?还是写未完待续的小说呢?
那种隔岸瘙痒的纠结可想而知。(未完待续……)
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178 愚人节的玩笑?
当然此时这帮人心头在痒也没用,毕竟这份资料还是属于别人的,他们唯一能做的只是继续往下研究。
紧跟着资料中介绍的是EUV光源辐射能的收集问题。
介于EUV光源发出的辐射波长极短,物质对其的吸收十分强烈,所以完全无法使用之前的透射式光学系统对辐射进行收集,所以这也的确是EUV光刻技术的一大难点,不过他们研发的掠入射式光源收集系统已经基本上快要解决这个问题。
接下来在研究这份资料给出的方案时,尼康的研发人员发现这份资料给出的方案其实跟他们的研究非常近似,却又更加完善。一些微小的细节,能更好的解决这套系统在EUV光源的短波长下引发的光学问题。
这无疑给了他们新的思路跟启示。可就在他们甚至忘记了时间流逝,一边不停探讨一边津津有味的看到最关键的地方时,尼玛,这些能容竟然再次被直接的胡乱掩盖掉了!
没错,就在最关键最让人期待的时候,资料上只剩下一排排参差不齐的粗黑杠!那些重要的内容全部被埋在了黑杠之下!这还当真是——坑爹啊!
对这帮研发人员来说,这就好像一个上了年纪的男人,好不容易被一个如狼似虎的女人勾起了性趣,两人天雷地火般的进行到最关键的时候,女人一把推开男人,直接穿上裤子准备走人一样让人难以接受啊!多被这么玩弄几次,直接痿了的可能性都有啊。
甚至有人都想拿出个硬币。把那些粗黑杠掩去的地方给刮开都好。不过这毕竟不是彩票,显示器更是公家财务。刮坏了是要赔的,这才让一帮人止住了怨念。
不过这样一来也让很多人虽然明知道这份材料接下来的部分可能会更加精彩。更有价值,但是都不想继续研究下去了。这太坑人了,每次都是在最关键的部分动刀子,不带这么玩人的吧?
当然这种情绪也只能在心头抱怨。毕竟大家都是在工作,自然不能随便撂担子,不过话说回来,抛去资料关键点被粗暴的划去这一点不谈,这份资料对这些研发人员的吸引力也是极大的,起码能给他们开拓思路不是?
接下来关于如何提升光源强度等等问题都进行了详细论述。甚至在资料最后还给出了光掩模板的无瑕疵解决方案,当然最关键的部分都同样被掩盖了。
不过即便是这样也没有人敢小觑天书科技,或者说天书科技所代表的华夏在光刻机研发进程了。不过在跟研发人员一
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