第四十八章 光源样品 (第1/2页)

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“许秋，我们要准备光源的样品了。”陈婉清道。

“光源？”许秋想了想，说道：“就是魔都同步辐射中心吧。”

“对的，他们也叫魔都光源，是目前中国最新一代的同步辐射光源。”陈婉清道。

“那什么时候去测试呢？”许秋道。

“两天后，7月25号，周五，九点开始，时间是12个小时。”陈婉清道。

“要测12个小时啊，这么久。”许秋道。

“没办法，他们分配机时的时候，就是以半天为单位进行分配的。”陈婉清道。

“他们光源是一天24小时都在运行啊，那岂不是有些倒霉蛋要通宵测试了，等一下……”许秋好像突然意识到了什么。

“我们不会就是那个倒霉蛋吧。”

“没错，我们被安排的时间就是晚上九点开始的。”陈婉清点点头道。

“测完后就是26号上午九点，休息一个白天，28号才保研面试，应该问题不大。”许秋内心分析过后，说道：

“行，学姐来教我制备样品吧。”

…………

来到实验室，陈婉清介绍道：

“我们做光源样品用的基底是单晶硅片，因为它的背景信号容易辨认和扣除。

首先需要用玻璃刀将硅片裁成小块，每一块的面积尽量在2平方厘米以上，大致呈正方形即可。”

说完，陈婉清从硅片盒中取出一片圆形的硅片。

其直径大约15厘米，厚度大约2-3毫米，单面抛光。

她取来玻璃刀，拿直尺比着，在未抛光的那一面，划了一组间隔约15厘米的平行直线。

然后，用两只尖端扁平的镊子，分别夹住玻璃刀所划直线印记的两端，同时用力，将其掰断。

这样就得到了一组宽约15厘米的长条硅片。

接着，她再次借助玻璃刀，将长条硅片掰断成为一片片近似正方形的小硅片。

当然，因为大硅片是圆形的，所以边角处不可避免的存在一定的弧度。

许秋学会后，也如法炮制，拿来两片圆形硅片，将它们掰成为小硅片。

两人一共得到90余片小硅片，做这次的样品足够了。

“接下来，将小硅片洗净吹干，清洗硅片的话有专门的工具。”

陈婉清拿来一个装有塑料支架的烧杯。

“把硅片一片片整齐摆在塑料支架上，然后倒入溶液，用铝箔把烧杯口封住，然后用超声波清洗仪超声。

溶液分别是去离子水、丙酮、异丙醇，各自超声10分钟，最后再用氮气枪将硅片吹干，放入培养皿中。”

“这和清洗玻璃基片的步骤也差不多啊，除了不用肥皂水以外。”许秋道。

“是呀，不过在用氮气枪的时候要小心，硅片比ito玻璃基片更容易飞掉。”陈婉清提醒道。

“好的。”许秋道：“对了，吴菲菲和段云他们不需要做样品吗？”

“吴菲菲的三维钙钛矿材料，遇到氧气会直接变质，没办法测试；

段云主要做无机热电材料，他在学校里用xrd就可以测试了，不需要跑到光源去测试。”陈婉清道。

…………

有了学姐的提醒，许秋在吹干硅片时，没出现太大的失误，只吹飞了一片。

然后，他和学姐一同讨论要做哪些样品。

p3ht的话，陈婉清有6个共混体系，3个单独组分，共9种；

旋涂方法包括正常旋涂和喷涂，共2种；

每种再设置2组转速；

一共36组条件。

ptb7-th体系，1个共混体系，2个单独组分，共3种。

溶剂添加剂包含不添加和2种不同的体积分数，一共有3种；

退火和不退火，一共2种；

每种再设置2组转速；

一共36组条件。

其实转速对于最终结果的影响不大，但是有机样品的信号普遍较弱，为了防止意外，确保每个体系都能测出来信号，所以要尽量多的准备样品。

因为硅片的面积较小，所以采用数值编号，从1到72，许秋将编号对应的实验条件记录在实验记录本上。

然后，他将吹干的硅片臭氧处理后，传入手套箱中，准备旋涂。

硅片的旋涂操作与正常的相差无几，虽然硅片面积比较小，但是它的

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