第四十四章 临时想到的伪装计划 (第1/2页)
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许秋将蚀刻失败的基片处理掉,开始思考失败的原因。
一方面可能是蚀刻时间过长;
另一方面可能是胶布与基片之间存在有气泡,或者它们的间隙过大。
再次实验。
许秋又取来三片pen基片,用3电工胶布贴好图案后,反复用镊子按压胶布的所在部位,使之与基片尽量贴合。
然后,他在三个新的一次性塑料杯中加入稀盐酸,并倒入两勺锌粉。
等待五秒钟后,他将三片基片各自放入一个塑料杯中,同时按下秒表。
每隔40秒钟,捞出一片基片,随后用去离子水冲洗干净,撕下上面贴有的3电工胶布。
许秋通过肉眼观察,蚀刻时间为40秒、80秒的基片,均得到了完好的图案。
而蚀刻时间为120秒的基片,ito图案的边缘有被酸液腐蚀的痕迹,不过相较于上一次实验,痕迹变得不明显。
这说明将胶布与基片紧密贴合,对于防止酸液渗入胶布下面起到了一定的作用。
肉眼可能会骗人,为了确保蚀刻成功,许秋从工具箱中取出万用表,测量基片上被蚀刻部位的导通情况。
将万用表调至导通模式,如果两个红黑表笔之间的电阻很小,万用表就会发出“滴”的声音。
经过检测,三个基片被蚀刻部位都是不导通的,而ito本身是良好的导体,这表明裸露在外的ito成功被蚀刻。
因此,蚀刻时间为40秒和80秒的条件都是可行的。
许秋最终选择了一个中间值,蚀刻1分钟。
…………
摸索好实验条件后,许秋制备了12片图案化的pen/ito基片。
虽然中途有一片因为胶布没有粘牢而失败了,但是不影响大局。
随后,他用异丙醇清洗基片,接着用氮气枪吹干,装入培养皿中。
接下来的旋涂操作,许秋又遇到了新的问题。
pen基片无法被匀胶机上方的平台吸牢,在高速旋转的过程中,基片有时会直接飞出去。
许秋想了想,将pen基片贴在了与之同等大小的玻璃片上,然后再进行旋涂。
顺利解决问题。
涂好pedot:pss后,许秋将基片上的玻璃片取下,然后在100摄氏度下退火,擦片。
之后,他又重新在基片上贴好玻璃片,传入旋涂的手套箱内。
陈婉清看到后,好奇问道:“许秋,这是什么,玻璃片上贴着……pen基片吗?”
“没错,我已经找到蚀刻pen基片的方法了,湿法蚀刻,用3胶布贴好,控制好时间就行了,”许秋道:
“下面贴一块玻璃是为了方便旋涂。”
“好呀,等下准备涂什么有效层啊?”陈婉清道。
“学姐给我点ptb7-th的溶液用用呗,还有旋涂方法也告诉我吧。”许秋道。
“溶液在加热搅拌台上,应该还有500微升,足够你用了,”陈婉清道:
“实验条件的话,我等下写在便签纸上给你,现在快吃午饭了,等吃完饭回来再做实验吧。”
…………
下午,还不到一点钟,许秋便拿着学姐的便签纸,进入手套箱中。
没办法,旋涂的手套箱可是香饽饽,他怕到一点半的时候抢不到手套箱的使用权。
许秋看了一眼学姐的实验条件:
“氯苯溶剂,15毫克每毫升,给受体比例1:1,2000转速,05体积分数的dio,不退火。”
可以直接拿来使用,只需要调控一下转速即可。
溶液在放置和使用过程中,因为溶剂挥发等原因,其浓度是会改变的。
通常是溶液配制的时间越久,它的浓度越高,对应的最佳转速也会越来越高。
因此,一般情况下,一个溶液都会做多个转速,来补偿溶液浓度变化带来的影响。
这次做器件只是初步尝试,许秋没打算将十二片基片全部用掉。
他决定只用四片,其中两片涂ptb7-th:pc[70]b溶液,另外两片用之前的p3ht:pc[60]b溶液。
p3ht的那两片操作稍微复杂一些,因为涉及到热退火和溶剂退火。
退火温度需要控制在100摄氏度,同时退火期间也要把下面粘着的玻璃片取下。
…………
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